特許
J-GLOBAL ID：200903040511855761
薄膜装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
志賀 正武 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-329539
公開番号（公開出願番号）：特開平5-144922
出願日： 1991年11月18日
公開日（公表日）： 1993年06月11日
要約：
【要約】【構成】 本願の薄膜装置1は、基板11に薄膜を形成するための成膜室3と、成膜室3に隣接して設けられ、基板11を真空排気するための予備室4と、予備室4に設けられ、成膜室3内の所定位置に基板11を搬入するための搬送機構5とを具備し、搬送機構5は、基板11を保持し搬入するためのアーム31(32)を複数本有してなることを特徴とする。【効果】 成膜との並列処理が可能となり、基板の搬入及び搬出を極めて短時間で行うことができ、操作時間を大幅に短縮することができる。また、予備室が1つで足りるので装置が大型にならず、クリーンルームも大面積のものは必要なくなる等の優れた効果を奏することができる。
請求項（抜粋）：
基板に薄膜を形成するための成膜室と、該成膜室に隣接して設けられ、前記基板を真空排気するための予備室と、該予備室に設けられ、前記成膜室内の所定位置に前記基板を搬入するための搬送機構とを具備してなる薄膜装置において、前記搬送機構は、基板を保持し搬入するためのアームを複数本有してなることを特徴とする薄膜装置。
IPC (5件)：
H01L 21/68
, C23C 14/56
, C23C 16/44
, C30B 25/02
, H01L 21/31
