特許
J-GLOBAL ID：200903040520926752
Cu箔製造ドラム用チタンの製造方法及びその製造に用いるチタンスラブ
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
田村 弘明 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-028739
公開番号（公開出願番号）：特開平11-226608
出願日： 1998年02月10日
公開日（公表日）： 1999年08月24日
要約：
【要約】【課題】 Cu箔製造に適した、板圧方向にもマクロ組織を均一化したチタン素材の製造方法及びその製造に用いるスラブを提供する。【解決手段】 板厚方向における再結晶組織分率が90%超であることを特徴とするCu箔製造ドラム用チタンの製造に用いるスラブ、及びそのスラブを、総圧下比(圧延前厚さ/圧延後厚さ)15超で熱延した後に焼鈍を行なうことを特徴とするCu箔製造ドラム用チタンの製造方法。
請求項（抜粋）：
板厚方向における再結晶組織分率が90%超であることを特徴とするCu箔製造ドラム用チタン(純チタン及びチタン低合金を含む、以下同じ)の製造に用いるスラブ。
IPC (13件)：
B21B 3/00
, B21B 1/02
, C22C 14/00
, C22F 1/18
, C25D 1/10
, C22F 1/00 601
, C22F 1/00 623
, C22F 1/00 631
, C22F 1/00 661
, C22F 1/00 683
, C22F 1/00 684
, C22F 1/00 694
, C25D 1/04 311
B21B 3/00 K
, B21B 1/02 A
, C22C 14/00 Z
, C22C 14/00
, C22F 1/18 H
, C25D 1/10
, C22F 1/00 601
, C22F 1/00 623
, C22F 1/00 631 B
, C22F 1/00 661 Z
, C22F 1/00 683
, C22F 1/00 684 B
, C22F 1/00 694 A
, C25D 1/04 311
