特許
J-GLOBAL ID:200903040523783111

シクロヘキサンジメタノールの製造法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 石田 敬 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-000792
公開番号(公開出願番号):特開平7-188078
出願日: 1994年01月10日
公開日(公表日): 1995年07月25日
要約:
【要約】【目的】 ジアルキルシクロヘキサンジカルボキシレートから工業的有利にトランス異性体比率の比較的高いシクロヘキサンジメタノールを製造する。【構成】蒸気状のジアルキルシクロヘキサンジカルボキシレートを不均一系エステル水素化触媒の存在下水素ガスと接触させる。
請求項(抜粋):
トランス:シスの異性体比率が約1:1以下であるジアルキルシクロヘキサンジカルボキシレートを水素添加することにより、トランス:シスの異性体比率が約1:1以上であるシクロヘキサンジメタノールを製造するにあたり、(a)不均一系エステル水素添加用触媒を含む水素添加域を設け、(b)水素添加域へ、水素と、ジアルキルシクロヘキサンジカルボキシレート含有水素添加可能な物質とを含む蒸気供給流を、当該混合物の露点以上の入口温度で供給し、(c)水素添加域を、当該エステルを水素添加するのに役立つ温度および圧力の条件に維持し、(d)蒸気供給流を水素添加域を通過させ、(e)水素添加域から、トランス:シスの異性体比率が約1:1以上であるシクロヘキサンジメタノールを含む生成物流を回収することを特徴とする方法。
IPC (10件):
C07C 31/27 ,  B01J 23/42 ,  B01J 23/44 ,  B01J 23/60 ,  B01J 23/72 ,  B01J 23/86 ,  B01J 23/889 ,  C07B 53/00 ,  C07C 29/149 ,  C07B 61/00 300
引用特許:
出願人引用 (3件)
  • 特公昭41-003621
  • 特表平4-503474
  • 特表平2-504363
審査官引用 (9件)
  • 特公昭41-003621
  • 特公昭41-003621
  • 特公昭41-003621
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