特許

J-GLOBAL ID：200903040524032667

パターン測定方法および位置合わせ方法

発明者： 藤田 良久
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 永井 冬紀
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-137639
公開番号（公開出願番号）：特開2000-329521
出願日： 1999年05月18日
公開日（公表日）： 2000年11月30日
要約：

【要約】【課題】 高速かつ高精度で測定再現性に優れたパターン測定方法を提供する。【解決手段】 基板40上に形成される回路パターンの拡大像が、対物光学系22、ミラー24および撮像光学系26Aで構成される拡大光学系により固体撮像素子30上に形成される。拡大光学系の視野内における回路パターン上の測定対象点の位置は、画像処理装置32で処理され、この視野内における測定対象点の位置に関する情報が制御回路34に出力される。制御回路34は、この情報と干渉計システム14および16から出力される移動ステージ50の位置情報とに基づいて測定対象点の位置を求める。このとき、各測定対象点の設計上の座標値に対する位置ずれ量を予め求めておき、上記設計上の座標値にこの位置ずれ量を加味して移動ステージ50を駆動する。これにより、拡大光学系の視野のほぼ中心に測定対象点を位置させることができる。

請求項（抜粋）：

被測定物上に存する測定対象点の位置を測定する測定光学系に用いられるパターン測定方法であって、本測定に先立ち、測定対象点の設計上の座標値に対する位置ずれ量を求める位置ずれ量算出手順と、本測定に際し、前記測定対象点の前記設計上の座標値に前記位置ずれ量を加味して前記被測定物と前記測定光学系とを相対移動することにより、前記測定光学系の視野中心近傍に前記測定対象点を位置合わせする位置合わせ手順とを有することを特徴とするパターン測定方法。

IPC (5件)：

G01B 11/00 ,  G01B 9/02 ,  G03F 9/00 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/66

FI (7件)：

G01B 11/00 H ,  G01B 11/00 C ,  G01B 11/00 G ,  G01B 9/02 ,  G03F 9/00 H ,  H01L 21/66 J ,  H01L 21/30 525 X

Fターム (48件)：

2F064AA01 ,  2F064AA04 ,  2F064BB01 ,  2F064EE01 ,  2F064FF01 ,  2F064GG12 ,  2F064HH01 ,  2F065AA03 ,  2F065AA06 ,  2F065AA20 ,  2F065BB02 ,  2F065BB03 ,  2F065CC19 ,  2F065DD06 ,  2F065EE05 ,  2F065EE08 ,  2F065EE11 ,  2F065FF04 ,  2F065FF52 ,  2F065GG04 ,  2F065HH13 ,  2F065JJ01 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ09 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL12 ,  2F065NN20 ,  2F065PP12 ,  2F065PP13 ,  2F065TT02 ,  4M106AA01 ,  4M106AA09 ,  4M106BA04 ,  4M106BA05 ,  4M106CA50 ,  4M106DB04 ,  4M106DB08 ,  4M106DB20 ,  4M106DJ03 ,  4M106DJ04 ,  4M106DJ11 ,  4M106DJ40 ,  5F046BA04 ,  5F046EA02 ,  5F046EB01 ,  5F046FA10 ,  5F046FC06 ,  5F046FC08