露光装置の検査方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：鈴江武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-187624
公開番号（公開出願番号）：特開2000-021732
出願日： 1998年07月02日
公開日（公表日）： 2000年01月21日
要約：

【要約】【課題】露光装置を分解せずに簡便かつ迅速に検査する。【解決手段】光源と、該光源から射出される光をフォトマスクに導く照明光学系1と、該フォトマスクの縮小投影像をウェハ5上に転写する投影光学系3から構成される露光装置の光源形状と、投影光学系3の瞳4の形状と、該光源形状と瞳4の形状との同心度を検査する露光装置の検査方法において、光源から射出される光を、有限の周期で透光部と遮光部が繰り返された格子パターンを含むレチクル2に照射し、レチクル2を通過した1次以上の回折光を投影光学系3の瞳4の外縁に照射させ、かつデフォーカス状態でレチクル2のパターン像をウェハ5上に露光する。

請求項（抜粋）：

光源と、該光源から射出される光をフォトマスクに導く照明光学系と、該フォトマスクの縮小投影像をウェハ上に転写する投影光学系とから構成される露光装置に対し、前記光源形状と、前記投影光学系の瞳形状と、該光源形状と瞳形状との同心度を検査する露光装置の検査方法において、前記光源から射出される光を、有限の周期で透光部と遮光部が繰り返された周期パターンを含む光学部材に照射し、該光学部材を通過した1次以上の回折光を前記投影光学系の瞳外縁に照射させ、かつデフォーカス状態で前記光学部材のパターン像を前記ウェハ上に露光することを特徴とする露光装置の検査方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 521

FI (3件)：

H01L 21/30 514 Z , G03F 7/20 521 , H01L 21/30 502 V

Fターム (5件)：

5F046AA28 , 5F046CA04 , 5F046CB22 , 5F046CB25 , 5F046DA12

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