特許
J-GLOBAL ID:200903040545858441
ジメチルエーテルの製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (1件):
田中 政浩
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-354121
公開番号(公開出願番号):特開2002-155003
出願日: 2000年11月21日
公開日(公表日): 2002年05月28日
要約:
【要約】【課題】 製鉄所副生ガス等を原料としてジメチルエーテルを安定して製造できる方法を提供する。【解決手段】 上記課題は、水素ガス50〜65モル%を含有するガスAから水素ガス分を分離回収して水素ガス濃度を高めたガスと、一酸化炭素ガスを50モル%以上含有するガスBを混合したガスを、溶媒にスラリー状に懸濁させた触媒と接触させてジメチルエーテルを製造することを特徴とするジメチルエーテルの製造方法によって解決される。
請求項(抜粋):
水素ガス50〜65モル%を含有するガスAから水素ガス分を分離回収して水素ガス濃度を高めたガスと、一酸化炭素ガスを50モル%以上含有するガスBを混合したガスを、溶媒にスラリー状に懸濁させた触媒と接触させてジメチルエーテルを製造することを特徴とするジメチルエーテルの製造方法
IPC (3件):
C07C 41/01
, C07C 43/04
, C07B 61/00 300
FI (3件):
C07C 41/01
, C07C 43/04 D
, C07B 61/00 300
Fターム (20件):
4H006AA02
, 4H006AC43
, 4H006BA05
, 4H006BA07
, 4H006BA09
, 4H006BA30
, 4H006BB11
, 4H006BB12
, 4H006BB14
, 4H006BB15
, 4H006BB16
, 4H006BB17
, 4H006BD10
, 4H006BE20
, 4H006BE40
, 4H006GN01
, 4H006GP01
, 4H006GP30
, 4H039CA61
, 4H039CL35
引用特許:
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