特許

J-GLOBAL ID：200903040549008175

ベンザルマロネ-トシランによるジベンゾイルメタン誘導体の光安定性の改善方法並びに光安定性改善剤

発明者： セルジュ・フォレスティ ,  エルヴェイ・リシャール ,  デルフィン・アラール ,  ディディエール・カンドー
出願人/特許権者： ロレアル
代理人 (1件)： 志賀 正武 (外8名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-214327
公開番号（公開出願番号）：特開2000-136120
出願日： 1998年03月06日
公開日（公表日）： 2000年05月16日
要約：

【要約】【課題】 ベンザルマロネートシランによるジベンゾイルメタン誘導体の光安定性の改善方法の提供。【解決手段】 本発明は特殊なベンザルマロネートシランの有効量をジベンゾイルメタン誘導体に組み合わせることを備え、紫外線照射について少なくとも1種のジベンゾイルメタン誘導体の安定性を改善する新規な方法に関する。

請求項（抜粋）：

ジベンゾイルメタン誘導体を含む光遮蔽化粧料組成物中の該ジベンゾイルメタン誘導体の光化学安定性を改善するための方法であって、前記組成物に、次の式(I):【化1】[式中、- R1、R2とR3は同じであるか又は異なり、任意にハロゲン化されたC1-C10アルキル基又はフェニル基であり、- R4とR5は同じであるか又は異なり、水素原子、ヒドロキシル基、C1-C6アルキル基、C1-C6アルコキシ基又はトリメチルシリロキシ基であり、- R6とR7は同じであるか異なり、C1-C8アルキル基であり、- aは0又は1に等しく、- Yは次の式(1)から(4)【化2】【化3】【化4】【化5】式中、- R8は水素原子又はC1-C5アルキル基であり、- pは1から10までの整数である、のいずれか一つに相当する二価の基であり、基-Y-(O)a-及び二つの基R4とR5は、基-CH=C-[(CO2R6)](CO2R7)については芳香族環の中立のパラ位置に及び二つのメタ位置において結合される]の少なくとも一つのベンザルマロネートシランの有効量を添加することからなる方法。

IPC (5件)：

A61K 7/42 ,  A61K 7/02 ,  A61K 7/06 ,  C07F 7/08 ,  C09K 3/00 104

FI (5件)：

A61K 7/42 ,  A61K 7/02 ,  A61K 7/06 ,  C07F 7/08 J ,  C09K 3/00 104 Z

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 有機ケイ素基を有するベンザルマロネート誘導体及びその製造法並びにこれを含有する紫外線吸収剤及び化粧料
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-128743   出願人：花王株式会社
• 光安定性遮光性化粧用組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-265104   出願人：ジボーダン-ルール(アンテルナシヨナル)ソシエテアノニム