特許

J-GLOBAL ID：200903040584315684

レーザテクスチャ装置

発明者： 森口 泰之 ,  木下 和人 ,  宗藤 正利
出願人/特許権者： 日立電子エンジニアリング株式会社
代理人 (1件)： 影井 俊次
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-255148
公開番号（公開出願番号）：特開2000-084682
出願日： 1998年09月09日
公開日（公表日）： 2000年03月28日
要約：

【要約】【課題】 簡単な光学系構成で、レーザ光源からのレーザビームを分岐させる手段等が熱その他の外的な影響で特性が変化しても、ディスクの表裏両面に均等なバンプを高精度に形成する。【解決手段】 レーザ光源20からのレーザビームをアイソレータ21により偏光面を45°回転させた上で、NDフィルタ22及び光偏向器23により光量調整され、ビームエキスパンダ24により拡径され、平行光束化された後に、偏光ビームスプリッタ26によりP偏光光路部15PとS偏光光路部15Sとに分けられるが、偏光ビームスプリッタ26の前段にλ/2波長板27が設けられる。偏光ビームスプリッタ26から対物レンズユニット28P,28Sに至る光路にはビ-ムサンプラ29P,29S及びパワーディテクタ30P,30Sが設けられ、光偏向器23により全体の光量が調整され、λ/2波長板27の角度を調整することによりP偏光成分とS偏光成分とのパワー比が変化する。

請求項（抜粋）：

ディスクをスピンドルに装着して、このスピンドルによりディスクを回転させながら、レーザ光源及び対物レンズを含むレーザ光照射手段からのレーザパルスを所定のピッチ間隔でディスクの両面に照射することによって、ディスク表裏両面に対して所定の範囲にわたって規則的な突起を形成するレーザテクスチャ装置において、1個のレーザ光源と、このレーザ光源からの直線偏光からなるレーザビームの偏光面を45°回転させる偏光面制御手段と、この偏光面制御手段の出力側に設けた調光手段と、この調光手段で光量調整されたレーザビームを偏光成分に応じて2つの光束に分ける分光手段と、この分光手段で分けられた2つの光路にそれぞれ設けたレーザパワー検出手段とを備え、両レーザパワー検出手段による検出信号の基づいて前記調光手段によるレーザビームの全体光量を調整すると共に、前記分光手段の入力側に配置され、この分光手段により分けられた2つの偏光成分のパワー比をλ/2波長板で調整する構成としたことを特徴とするレーザテクスチャ装置。

IPC (2件)：

B23K 26/00 ,  G11B 5/84

FI (2件)：

B23K 26/00 J ,  G11B 5/84 A

Fターム (8件)：

4E068AG00 ,  4E068CA02 ,  4E068CA07 ,  4E068CB10 ,  4E068CD04 ,  5D112AA24 ,  5D112GA03 ,  5D112GA19