特許
J-GLOBAL ID：200903040585672715

リポソーム製剤の製造方法、およびリポソーム製剤

発明者：
中島 彰久

中島 彰久 について

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長池 千秋

長池 千秋 について

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上田 栄一

上田 栄一 について


出願人/特許権者：
コニカミノルタエムジー株式会社

コニカミノルタエムジー株式会社 について


代理人 (4件)： 鈴木 俊一郎 ,  牧村 浩次 ,  鈴木 亨 ,  八本 佳子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-407552
公開番号（公開出願番号）：特開2005-162712
出願日： 2003年12月05日
公開日（公表日）： 2005年06月23日
要約：
【課題】 本発明は、貯蔵安定性と生体内での安定性に優れるとともに、粘度の低いリポソーム製剤の製造方法、および該方法により得られたリポソーム製剤を提供することを目的とする。 【解決手段】 本発明のリポソーム製剤の製造方法は、5000ガウス以上の磁束密度を有する磁場が印加されている間に、リポソームの水性分散液を0.2L/分以上の流速で通過させることを特徴とする。また、ニッケルおよび鉄を主成分として含有する平均粒径が10〜500μmの合金顆粒磁性粉末に対し、0.5(KOs)以上の交流磁場が印加されている間に、リポソームの水性分散液を0.2L/分以上の流速で通過させることを特徴とする。 【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
5000ガウス以上の磁束密度を有する磁場が印加されている間に、リポソームの水性分散液を0.2L/分以上の流速で通過させることを特徴とするリポソーム製剤の製造方法。
IPC (4件)：
A61K9/127 ,  A61K47/12 ,  A61K47/24 ,  A61K47/28
FI (4件)：
A61K9/127 ,  A61K47/12 ,  A61K47/24 ,  A61K47/28
Fターム (13件)：
4C076AA19 ,  4C076AA20 ,  4C076CC41 ,  4C076DD41 ,  4C076DD63 ,  4C076FF11 ,  4C076FF15 ,  4C076FF16 ,  4C076FF36 ,  4C076FF43 ,  4C076FF68 ,  4C076GG41 ,  4C076GG46
引用特許：
出願人引用 (1件)

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