特許
J-GLOBAL ID：200903040596152705
位相差測定装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
京本 直樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-136345
公開番号（公開出願番号）：特開平6-347335
出願日： 1993年06月08日
公開日（公表日）： 1994年12月22日
要約：
【要約】【目的】 位相シフトマスクのシフタ部分の位相量を露光波長で直接測定する。【構成】 KrFレーザ2からの光束を貼合わせ面9で2つに分割し、誘電体多層膜8で反射されたそれぞれの光束が貼合わせ面9で重ね合わせ干渉光を生じさせ、Siフォトディテクタ6上へと入射させる。一方の合成石英光路1中に光路長可変素子3を、他方の合成石英1中に位相シフトマスク5を埋め込む最小の空間を有している。干渉部分の明暗の強度の変化から位相シフタによる位相シフト量を正確に測定することができる。
請求項（抜粋）：
2光路の干渉計の一部に被測定試料と光路長微調整手段が挿入できる最小限の空間があり、他の光路が紫外線の透過率が高い固体で埋められていることを特徴とする位相差測定装置。
IPC (2件)：
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