特許

J-GLOBAL ID：200903040607670924

CaF2:Ndレーザに対する光源としての多孔性シリコンを含む微小空胴構造および該光源の配備方法

発明者： チ - チェン チョ ,  ウオルター エム.ダンカン
出願人/特許権者： テキサス インスツルメンツ インコーポレイテツド
代理人 (1件)： 浅村 皓 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-243282
公開番号（公開出願番号）：特開平6-224471
出願日： 1993年09月29日
公開日（公表日）： 1994年08月12日
要約：

【要約】【目的】 多孔性Siを光ポンピングのための光源として用いて、稀土類でドープされた薄膜からレーザ光を生ぜしめる方法および装置を開示する。【構成】 この方法および装置242においては、稀土類でドープされたCaF2 膜234が多孔性Si層230からの発光を吸収するように、多孔性Si層230を稀土類でドープされたCaF2 膜234に関連せしめることにより、強いスペクトル発射を生ぜしめる。装置242に関連する回路228、244は、多孔性Si層230を活性化することにより、発光を生ぜしめる。多孔性Si層230は、電気的に、化学蒸着法によって、または結晶シリコンを陽極化成することによって、形成されうる。

請求項（抜粋）：

強いスペクトル発射を生じるための微小空胴構造において、半導体基板と、稀土類ドーパントを含むCaF2 薄膜であって、該CaF2 薄膜が光学的にポンピングされるのに応答して前記強いスペクトル発射を生じる該稀土類ドーパントを含むCaF2 薄膜と、該強いスペクトル発射を反射するための空胴を形成する反射性空胴形成媒質と、前記CaF2 薄膜を光学的にポンピングする多孔性Si層と、該CaF2 薄膜を光学的にポンピングするための活性化回路と、を含む、強いスペクトル発射を生じるための微小空胴構造。

IPC (2件)：

H01L 33/00 ,  H01L 27/15

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平3-042880
  
• 特開平4-234183
  
• 特開平1-094689