特許
J-GLOBAL ID：200903040610338655

マイクロ化学プロセス用基材及びその製造方法

発明者：
原口 和敏

原口 和敏 について


出願人/特許権者：
財団法人川村理化学研究所

財団法人川村理化学研究所 について


代理人 (1件)： 高橋 勝利
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-071769
公開番号（公開出願番号）：特開2004-277590
出願日： 2003年03月17日
公開日（公表日）： 2004年10月07日
要約：
【課題】微細で複雑な外形形状、表面凹凸、内部流路、内部空隙などを有し、機能性及び取り扱い性に優れたマイクロ化学プロセス用基材及びその製造方法を提供する。【解決手段】水膨潤性粘土鉱物を含有する高分子ゲルからなり、流路を内部に含む、および/または表面に凹凸を有することを特徴とするマイクロ化学プロセス用基材、および鋳型に、水溶性有機モノマーと微分散した水膨潤性粘土鉱物を含む水溶液中を注入し,該水溶性有機モノマーを重合させて高分子ゲルを調製した後,該高分子ゲルを該鋳型から離型することを特徴とするマイクロ化学プロセス用基材の製造方法。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
水膨潤性粘土鉱物を含有する高分子ゲルからなり、流路を内部に含む、および/または表面に凹凸を有することを特徴とするマイクロ化学プロセス用基材。
IPC (4件)：
C08L101/00 ,  C08K3/00 ,  G01N35/08 ,  G01N37/00
FI (4件)：
C08L101/00 ,  C08K3/00 ,  G01N35/08 C ,  G01N37/00 101
Fターム (8件)：
2G058DA00 ,  2G058DA07 ,  4B029AA08 ,  4B029GB06 ,  4J002BG121 ,  4J002BG131 ,  4J002DJ006 ,  4J002FD016
引用特許：
審査官引用 (3件)

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