特許

J-GLOBAL ID：200903040614436198

投影露光装置およびデバイス製造方法

発明者： 久保 博義
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 伊東 哲也 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-299070
公開番号（公開出願番号）：特開2000-114159
出願日： 1998年10月07日
公開日（公表日）： 2000年04月21日
要約：

【要約】【課題】 装置の製造コストをさほど上昇させず、かつ精度劣化等の問題を発生させることなく、生産性を高めることができるようにする。【解決手段】 原板に形成されたパターンを感光基板上に投影露光するための投影光学系9と、原板および感光基板を保持して投影光学系に対してそれぞれ移動可能な原板ステージ12および基板ステージSA、SBとを備えた投影露光装置において、原板ステージは少なくとも2以上の原板RA1、RB2を同時に保持し、それによってこれらの原板を交替で使用できるようにする。さらに、基板ステージと、それに保持される感光基板の位置を計測するための基板アライメント手段OAA、OBBとを、原板ステージ上に保持される2以上の原板の各々に対応させて用いることができるように、これら原板と同数備え、かつ、前記投影光学系および露光用の光源を含む露光光学系15を各対応する原板および基板ステージ間で共用する。

請求項（抜粋）：

原板に形成されたパターンを感光基板上に投影露光するための投影光学系と、前記原板および感光基板を保持して前記投影光学系に対してそれぞれ移動可能な原板ステージおよび基板ステージとを備えた投影露光装置において、前記原板ステージは少なくとも2以上の原板を同時に保持し、それによってこれらの原板を交替で使用できるようにしたものであることを特徴とする投影露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (4件)：

H01L 21/30 515 F ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 515 E ,  H01L 21/30 516 B

Fターム (9件)：

5F046BA03 ,  5F046CC01 ,  5F046CC02 ,  5F046CC03 ,  5F046CC05 ,  5F046CC15 ,  5F046CC16 ,  5F046DA14 ,  5F046FB16