特許
J-GLOBAL ID：200903040621460789
パターン転写用マスク
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
永井 冬紀
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-132287
公開番号（公開出願番号）：特開平8-330209
出願日： 1995年05月30日
公開日（公表日）： 1996年12月13日
要約：
【要約】【目的】 湿式エッチングにより必要最小限の幅の支柱を形成できるパターン転写用マスクを提供する。【構成】 薄膜状のマスク基板11と、このマスク基板11を支持する支柱14とを備えたパターン転写用マスクにおいて、湿式エッチングに対する支柱14のエッチングレートを支柱14のマスク基板11に対する高さ方向と、支柱14の壁面14aの法線方向とで等しくする。
請求項（抜粋）：
薄膜状のマスク基板と、このマスク基板を支持する支柱とを備えたパターン転写用マスクであって、湿式エッチングに対する前記支柱のエッチングレートが、前記支柱の前記マスク基板に対する高さ方向と、前記支柱の壁面の法線方向とで等しいことを特徴とするパターン転写用マスク。
IPC (2件)：
FI (3件)：
H01L 21/30 531 M
, G03F 1/16 A
, G03F 1/16 B
