特許
J-GLOBAL ID：200903040625013175
研磨用組成物
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
柳田 征史 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-261521
公開番号（公開出願番号）：特開2000-084832
出願日： 1998年09月16日
公開日（公表日）： 2000年03月28日
要約：
【要約】【課題】 水溶液に研磨砥粒を分散してなる研磨用組成物のpH及び電気伝導度を調整し、不純物の化学的反応及び砥粒の凝集の防止を図って良好な研磨性を確保する。【解決手段】 研磨砥粒とエチルアルコール及び水を含んでなる研磨用組成物であって、この研磨用組成物のpHが2.5〜5.0で、且つ電気伝導度が30μS/cm以下に調整してなる。
請求項（抜粋）：
研磨砥粒とエチルアルコール及び水を含んでなる研磨用組成物であって、該研磨用組成物のpHが2.5〜5.0で、且つ電気伝導度が30μS/cm以下であることを特徴とする研磨用組成物。
Fターム (3件)：
3C058AA07
, 3C058CB10
, 3C058DA02
