特許

J-GLOBAL ID：200903040625582960

炭化水素の酸化脱水素方法

発明者： 滝口 真 ,  市川 修治
出願人/特許権者： 三菱化学株式会社
代理人 (1件)： 長谷川 曉司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-360744
公開番号（公開出願番号）：特開2002-161055
出願日： 2000年11月28日
公開日（公表日）： 2002年06月04日
要約：

【要約】【課題】 反応温度及び反応熱による触媒性能への影響なく、長期間安定して高収率で目的物を製造することのできる酸化脱水素方法の提供。【解決手段】 隣接する炭素原子にそれぞれ少なくとも一個の水素原子を持つ部分構造を有する炭化水素を表面積が10〜500m2 /gであり、且つ全細孔容積の50%以上を占める単一細孔の平均細孔径が5〜60nmであるシリカ担体上にカルシウム、ニッケル及びリンから選ばれる少なくとも一成分を含有させた触媒の存在下で酸化脱水素反応させる。

請求項（抜粋）：

隣接する炭素原子にそれぞれ少なくとも一個の水素原子を持つ部分構造を有する炭化水素を表面積が10〜500m2 /gであり、且つ全細孔容積の50%以上を占める単一細孔の平均細孔径が5〜60nmであるシリカ担体上にカルシウム、ニッケル及びリンから選ばれる少なくとも一成分を含有させた触媒の存在下で酸化脱水素反応させることを特徴とする炭化水素の酸化脱水素方法。

IPC (4件)：

C07C 17/357 ,  B01J 27/185 ,  C07C 25/28 ,  C07B 61/00 300

FI (4件)：

C07C 17/357 ,  B01J 27/185 M ,  C07C 25/28 ,  C07B 61/00 300

Fターム (32件)：

4G069AA03 ,  4G069AA08 ,  4G069AA12 ,  4G069BA02A ,  4G069BA02B ,  4G069BC09A ,  4G069BC09B ,  4G069BC68A ,  4G069BC68B ,  4G069BD07A ,  4G069BD07B ,  4G069CB07 ,  4G069DA06 ,  4G069EA01Y ,  4G069EC02X ,  4G069EC03X ,  4G069EC03Y ,  4G069EC12X ,  4G069EC13X ,  4G069EC13Y ,  4G069EC14X ,  4H006AA02 ,  4H006AC12 ,  4H006BA06 ,  4H006BA21 ,  4H006BA35 ,  4H006BA55 ,  4H006BA56 ,  4H006BA81 ,  4H006BC10 ,  4H039CA21 ,  4H039CC10