特許

J-GLOBAL ID：200903040643484096

ジエーテルの製造方法

発明者： ジアンピエトロ、ボルソッティ
出願人/特許権者： ハイモント、インコーポレーテッド
代理人 (1件)： 佐藤 一雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-331185
公開番号（公開出願番号）：特開平6-025050
出願日： 1991年11月20日
公開日（公表日）： 1994年02月01日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】 式(I)(式中、RはC1-18アルキル、C3-18シクロアルキル、C6-18アリールまたはC7-18アリールアルキル基)のジエーテルの製造方法を提供する。【構成】 下記の工程、すなわちa)アルドール縮合反応により、Rが上記の意味を有するの不飽和アルデヒドR-C(CHO)=CH-CH2R(II)を形成する工程、b)該アルデヒドを、Rが上記の意味を有する飽和化合物R-CH(CHO)-CH2-CH2R(III)に還元する工程、c)ホルムアルデヒドによる交差カニッツァーロ反応を使用して(III)をRが上記の意味を有するジオールR-C-(CH20H)2(CH2CH2R)(IV)に変換する工程、d)(IV)をメチル化して(I)を生成する工程からなる。

請求項（抜粋）：

式(式中、RはC1-18アルキル、C3-18シクロアルキル、C6-18アリールまたはC7-18アラルキル基である)のジエーテルの製造方法であって、下記の工程、すなわちa)アルドール縮合反応により、Rが上記の意味を有する式の不飽和アルデヒドを形成する工程、b)前記不飽和アルデヒドを、Rが上記の意味を有する式の飽和化合物に還元する工程、c)前記飽和化合物をRが上記の意味を有する式のジオールに変換する工程、およびd)前記ジオールをメチル化して対応するジエーテルを生成する工程からなることを特徴とする方法。

IPC (7件)：

C07C 43/04 ,  C07C 31/20 ,  C07C 41/24 ,  C07C 43/115 ,  C07C 43/164 ,  C07C 47/02 ,  C07C 47/21