特許

J-GLOBAL ID：200903040647779821

投影露光装置

発明者： 伊東 昌昭 ,  武田 英次
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-326425
公開番号（公開出願番号）：特開平6-177002
出願日： 1992年12月07日
公開日（公表日）： 1994年06月24日
要約：

【要約】【目的】パターン寸法に応じて高い露光強度が得られるX線投影露光方法とその装置を提供する。【構成】X線または真空紫外線で照明されたマスク上のパターンを、反射鏡から構成される結像光学系により基板に転写する投影露光において、波長領域を可変とする。【効果】パターン寸法が大きい場合、長波長領域のX線または真空紫外線を使用して露光強度を増加させることが可能であり、生産性向上の効果が大きい。

請求項（抜粋）：

X線または真空紫外線で照明されたマスク上のパターンを、反射鏡から構成される結像光学系により基板に転写する投影露光において、波長領域が可変であることを特徴とする投影露光装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 503 ,  G03F 7/20 521

FI (2件)：

H01L 21/30 311 L ,  H01L 21/30 331 A