特許

J-GLOBAL ID：200903040648354492

薄膜磁気ヘッド

発明者： 福山 博
出願人/特許権者： 日本ビクター株式会社
代理人 (1件)： 今間 孝生
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-284309
公開番号（公開出願番号）：特開平8-124115
出願日： 1994年10月25日
公開日（公表日）： 1996年05月17日
要約：

【要約】【目的】 摺動幅加工時にコイルの切断を生じさせない薄膜磁気ヘッドを得る。【構成】 導電材料薄膜によるコイルパターンの中心から薄膜磁気ヘッドの摺動面までの距離をL、コイルパターンの半径をr、摺動面における摺動巾をW、コイルパターンの中心から加工ラインまでの距離をJ、摺動面と加工ラインとのなす角をθとしたときに、J,L,W,θ,rの内で、角度θを45度<θ<90度に設定するとともに、r>W/2の関係が満足されるようにして前記のr,Wの値を設定して、 J=Lcosθ+(W/2)sinθ>r の関係が成立するようにLの値を設定したり、摺動面と加工ラインとのなす角を45度にするとともに、r>W/2の関係が満足されるようにして、L,W,rの間に、L>√2r-W/2 の関係が成立するようにLの値を設定して薄膜磁気ヘッドを構成する。それにより摺動面4とのなす角が所定の角度θで示される加工ライン5まで切削加工が行なわれてもコイル1が切断されることがない。

請求項（抜粋）：

非磁性体材料製の基板上に、下部コア、非磁性材料の絶縁薄膜、導電材料の薄膜によるコイルパターン、非磁性材料の絶縁薄膜、上部コア、等を順次に積層して構成させる薄膜磁気ヘッドにおいて、導電材料の薄膜によるコイルパターンの中心から薄膜磁気ヘッドの摺動面までの距離をL、前記したコイルパターンの半径をr、前記した摺動面における摺動巾をW、前記したコイルパターンの中心から加工ラインまでの距離をJ、前記した摺動面と加工ラインとのなす角をθとしたときに、前記したJ,L,W,θ,rの内で、前記の角度θを45度<θ<90度に設定するとともに、r>W/2の関係が満足されるようにして前記のr,Wの値を設定し、次式J=Lcosθ+(W/2)sinθ>rの関係が成立するように、前記のLの値を設定してなる薄膜磁気ヘッド。