特許
J-GLOBAL ID：200903040658679837
クリーンルームのガス監視システム
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
三好 秀和 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-040984
公開番号（公開出願番号）：特開平6-260379
出願日： 1993年03月02日
公開日（公表日）： 1994年09月16日
要約：
【要約】【目的】 半導体素子製造装置において製品の被害を最小にし、センサ数の大幅な削減を可能とし、瓦斯遮断装置を的確に駆動して瓦斯漏れの被害が大きくならないようにすることにある。【構成】 ガスセンサからのガス濃度信号が所定値以上となった場合に、該ガスセンサの反応ガス種リスト及びガス濃度補正係数と製造管理用コンピュータからの半導体素子製造装置の稼働状況及びガス使用状況に関する情報により漏洩したガス種及びその場所を推定し、その推定情報に基づき前記ガス遮断装置を駆動するガス遮断装置駆動手段を前記ガス監視用コンピュータに設けると共に、漏洩したガス種及びその場所の前記推定情報に基づき所定の半導体素子製造装置の作動を制御する作動制御手段を製造管理用コンピュータに設けたものである。
請求項（抜粋）：
循環式空調のクリーンルーム内に設けられた半導体素子製造装置と、前記半導体素子製造装置を管理する製造管理用コンピュータと、前記半導体素子製造装置へガス供給を行うガスボンベストッカと、前記クリーンルームの空調リターン口に設けられたガスセンサと、前記ガス供給を遮断するためのガス遮断装置と、ガスセンサからのガス濃度信号が所定値以上となるガス漏洩時に前記ガス遮断装置を駆動するガス監視用コンピュータとを備えたクリーンルームのガス監視システムにおいて、前記ガスセンサからのガス濃度信号が所定値以上となった場合に、該ガスセンサの反応ガス種リスト及びガス濃度補正係数と前記製造管理用コンピュータからの半導体素子製造装置の稼働状況及びガス使用状況に関する情報により漏洩したガス種及びその場所を推定し、その推定情報に基づき前記ガス遮断装置を駆動するガス遮断装置駆動手段を前記ガス監視用コンピュータに設けると共に、漏洩したガス種及びその場所の前記推定情報に基づき所定の半導体素子製造装置の作動を制御する作動制御手段を前記製造管理用コンピュータに設けたことを特徴とするクリーンルームのガス監視システム。
IPC (2件)：
引用特許：
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