特許

J-GLOBAL ID：200903040661553470

露光条件算出方法、露光条件算出プログラム、記録媒体、レチクルの製造方法、構造体の製造方法、装置及び露光条件算出サービス提供方法

発明者： 畑山 貴士
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 山下 穣平
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-389186
公開番号（公開出願番号）：特開2003-188089
出願日： 2001年12月21日
公開日（公表日）： 2003年07月04日
要約：

【要約】【課題】 性能の低いチップが作成されることを未然に防止し、コスト面での効率を上げること、或いは、多岐に亘る露光装置のユーザーに対して、使いやすい露光条件算出方法を提供することである。【解決手段】 基板にチップを形成可能なチップ形成可能領域のサイズを示す基板情報と、チップ領域のサイズを示すチップ情報と、露光領域のサイズを示す露光情報と、に基づいて、チップ形成可能領域内に配列される複数のチップ領域からなるチップ領域配列、及び/又は、少なくとも一つのチップ領域を露光可能な露光領域からなる露光領域配列と、を求める際に、露光領域配列を構成する各露光領域が実際に露光すべき有効露光領域であるか否かを判定する。

請求項（抜粋）：

基板を、該基板より面積が小さく且つチップを形成すべきチップ領域の複数を露光できる露光領域に分けて、逐次露光する場合の露光条件を算出するための露光条件算出方法において、入力された、少なくとも前記基板に前記チップを形成可能なチップ形成可能領域のサイズを示す基板情報と、少なくとも前記チップ領域のサイズを示すチップ情報と前記露光領域のサイズを示す露光情報と、に基づいて、前記チップ形成可能領域内に配列される複数のチップ領域からなるチップ領域配列、及び/又は、少なくとも一つの前記チップ領域を露光可能な露光領域からなる露光領域配列と、を求める際に、前記露光領域配列を構成する各露光領域が実際に露光すべき有効露光領域であるか否かを判定することを特徴とする露光条件算出方法。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 1/08 ,  G03F 7/20 521

FI (5件)：

G03F 1/08 A ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 514 B ,  H01L 21/30 502 G ,  H01L 21/30 502 P

Fターム (8件)：

2H095BA02 ,  2H095BB01 ,  2H095BB06 ,  2H095BB14 ,  5F046AA17 ,  5F046AA25 ,  5F046AA28 ,  5F046BA04