特許

J-GLOBAL ID：200903040672391889

脱硝装置における還元剤濃度の決定方法

発明者： 小掠 健 ,  倉元 政道 ,  大門 博
出願人/特許権者： 株式会社明電舎
代理人 (1件)： 志賀 富士弥 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-288502
公開番号（公開出願番号）：特開平8-141370
出願日： 1994年11月24日
公開日（公表日）： 1996年06月04日
要約：

【要約】【目的】 脱硝剤とNOX含有ガスとを還元剤の共存下で接触反応させるようにした脱硝方法において、温度と還元剤の濃度比を変えてNOx含有ガスの脱硝効率を高めることを目的とする。【構成】 ゼオライトに活性金属を担持させて得られる脱硝剤とNOX含有ガスとを還元剤の共存下で接触反応させるようにした脱硝装置において、上記活性金属としてコバルトを採用するとともに、還元剤として酢酸/酢酸アンモニウム水溶液を採用し、反応槽内の反応温度を250°C〜400°Cの範囲に保持しながら還元剤としての酢酸/酢酸アンモニウムの濃度比を適宜に選択することにより、NOX含有ガスの脱硝を行うようにした脱硝装置における還元剤濃度の決定方法を提供する。

請求項（抜粋）：

ゼオライトに活性金属を担持させて得られる脱硝剤とNOX含有ガスとを還元剤の共存下で接触反応させるようにした脱硝装置において、上記活性金属としてコバルトを採用するとともに、還元剤として酢酸/酢酸アンモニウム水溶液を採用し、反応槽内の反応温度を250°C〜400°Cの範囲に保持しながら還元剤としての酢酸/酢酸アンモニウムの濃度比を適宜に選択してNOX含有ガスの脱硝を行うことを特徴とする脱硝装置における還元剤濃度の決定方法。

IPC (6件)：

B01D 53/94 ,  B01D 53/34 ZAB ,  B01D 53/56 ,  B01D 53/86 ZAB ,  B01J 29/072 ZAB ,  B01J 29/14 ZAB

FI (4件)：

B01D 53/36 102 C ,  B01D 53/34 ZAB ,  B01D 53/34 129 B ,  B01D 53/36 ZAB