特許

J-GLOBAL ID：200903040680008849

露光用マスク及びこの露光用マスクを用いたエッチング方法

発明者： 佐藤 俊彦 ,  池上 正克 ,  小林 政美 ,  横山 雅春
出願人/特許権者： アルプス電気株式会社
代理人 (1件)： 野▲崎▼ 照夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-077365
公開番号（公開出願番号）：特開平11-271954
出願日： 1998年03月25日
公開日（公表日）： 1999年10月08日
要約：

【要約】【課題】 薄膜素子を有するスライダバーは、その薄膜素子を有する面(トレーリング側端面)が突方向に反り変形している。しかし、従来では一括露光方式によって使用される露光用マスクには、一直線上に露光用パターンが配置されているため、スライダバー上に形成される浮上面の位置精度は低下していた。【解決手段】 スライダバー1の記録媒体との対向面5の反り変形量はS1であり、この反り変形量S1に応じて、露光用マスク6の露光用パターン7がY1及びY2方向にずらして配置されている。このため、アライメント精度を向上させることができ、前記対向面5上に塗布されたレジスト液表面に、位置精度良く複数の浮上面エッチングパターンを同時に露光させることができる。

請求項（抜粋）：

基板表面に形成された感光性レジスト層に複数のエッチングパターンを同時に露光させるための露光用マスクであって、前記エッチングパターンに対応する複数の露光用パターンが、前記基板のエッチング面方向の反りに対応して、予め位置をずらして形成されていることを特徴とする露光用マスク。

IPC (3件)：

G03F 1/08 ,  G11B 5/60 ,  G11B 21/21 101

FI (3件)：

G03F 1/08 A ,  G11B 5/60 Y ,  G11B 21/21 101 L