特許
J-GLOBAL ID：200903040690028066
電子線描画装置
発明者：
,
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
中村 純之助
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-114468
公開番号（公開出願番号）：特開平5-102018
出願日： 1991年05月20日
公開日（公表日）： 1993年04月23日
要約：
【要約】【目的】加える電圧を小さくし、高速の焦点補正が高精度に行える電子線描画装置を得ることを目的とする。【構成】焦点補正器14を設置するレンズ以降の全べてのレンズの倍率と、設置するレンズの光路長との積が最大のレンズ内に焦点補正器を設置し、高感度で補正による倍率変化が小さい電子線描画装置を得る。
請求項（抜粋）：
ウェハやマスク上に微細なパタンを形成する電子線描画装置において、電子の偏向に伴う像面歪や試料の高さを補正するための静電焦点補正器を、該焦点補正器を設置するレンズ以降の全べてのレンズの倍率と、上記設置するレンズの光路長との積が最も大きなレンズ内に、設置することを特徴とする電子線描画装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, H01J 37/21
, H01J 37/305
