特許
J-GLOBAL ID：200903040698949349
蒸着フィルムの後処理方法
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-164690
公開番号（公開出願番号）：特開平7-018443
出願日： 1993年07月02日
公開日（公表日）： 1995年01月20日
要約：
【要約】【目的】この発明は、良好なガスバリヤ性を有するSiO蒸着フィルムを製造することを主要な目的とする。【構成】プラスチックフィルムの表面にSiO皮膜を蒸着形成した後、前記プラスチックフィルムを50°C以上で保持するか、あるいは前記プラスチックフィルムを酸素を含む雰囲気中で巻取り又は巻直しするか、あるいは前記プラスチックフィルムを酸素を含む雰囲気中又は酸素を含む雰囲気に曝露する前又は曝露した後にプラズマ放電処理することを特徴とする蒸着フィルムの後処理方法。
請求項（抜粋）：
プラスチックフィルムの表面にSiO皮膜を蒸着形成した後、前記プラスチックフィルムを50°C以上で保持することを特徴とする蒸着フィルムの後処理方法。
IPC (2件)：
前のページに戻る
