特許
J-GLOBAL ID：200903040723317026
相変化型光ディスク及び相変化型光ディスクの製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-170955
公開番号（公開出願番号）：特開平11-003538
出願日： 1997年06月12日
公開日（公表日）： 1999年01月06日
要約：
【要約】【課題】 オーバーライト時、照射されたレーザー光によって相変化記録層内で発生した熱を炭化珪素からなる誘電体層に良好に伝導して放熱することにより、記録層の熱的損傷を低減すると共に、書き換え性能が向上した相変化型光ディスクを提供する。【解決手段】 透光性基板1上に、第一の誘電体層2と、相変化記録層3と、第二の誘電体層4と、反射層5と、保護膜6とを順次積層してなる相変化型光ディスクAにおいて、第一の誘電体層2は、硫化亜鉛と金属酸化物との混合体、あるいは金属酸化物からなり,相変化記録層3は、レーザ光の照射により原子の配列が変化して可逆的に反射率が変化する相変化材料からなり,第二の誘電体層4は、炭化珪素からなる。
請求項（抜粋）：
透光性基板上に、第一の誘電体層と、相変化記録層と、第二の誘電体層と、反射層と、保護膜とを順次積層してなる相変化型光ディスクにおいて、前記第一の誘電体層は、硫化亜鉛と金属酸化物との混合体、あるいは金属酸化物からなり,前記相変化記録層は、レーザ光の照射により原子の配列が変化して可逆的に反射率が変化する相変化材料からなり,前記第二の誘電体層は、炭化珪素からなることを特徴とする相変化型光ディスク。
IPC (3件)：
G11B 7/24 534
, G11B 7/24
, G11B 7/26 531
G11B 7/24 534 N
, G11B 7/24 534 J
, G11B 7/26 531
