特許

J-GLOBAL ID：200903040728957678

窒化物薄膜作製方法

発明者： 北原 正 ,  市川 典男 ,  鈴木 孝
出願人/特許権者： 浜松ホトニクス株式会社
代理人 (1件)： 長谷川 芳樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-041984
公開番号（公開出願番号）：特開2002-241930
出願日： 2001年02月19日
公開日（公表日）： 2002年08月28日
要約：

【要約】【課題】 レーザアブレーションによる高精度の窒化物薄膜作製方法を提供すること。【解決手段】 本発明に係る窒化物薄膜作製方法は、るつぼ12内にターゲット材14を充填し、レーザアブレーションにより蒸散させて、基板17に窒化物の薄膜を作製する窒化物薄膜作製方法において、るつぼ12の表面を、ターゲット材14の充填前に窒化処理することを特徴とする。つまり、るつぼ12の表面を窒化処理し、窒化物層に変化させる。すると、るつぼ12の表面とターゲット材14の親和性が改善され、るつぼ12内に充填された溶融状態のターゲット材14の濡れ性が向上し、表面は水平となる。この状態で、レーザ光によりアブレーションし、ターゲット材14中の金属粒子の放出方向を安定させる。

請求項（抜粋）：

るつぼ内に窒化物薄膜作製用ターゲット材を充填し、レーザアブレーションにより蒸散させて、基板に窒化物の薄膜を作製する窒化物薄膜作製方法において、前記るつぼの表面を、前記ターゲット材の充填前に窒化処理することを特徴とする窒化物薄膜作製方法。

IPC (3件)：

C23C 14/28 ,  C23C 14/06 ,  C23C 14/24

FI (3件)：

C23C 14/28 ,  C23C 14/06 A ,  C23C 14/24 A

Fターム (5件)：

4K029AA07 ,  4K029BA58 ,  4K029CA01 ,  4K029DB13 ,  4K029DB20

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開平4-311561
  
• 特開平3-013566
  
• 特開昭51-141799
  
• 特開昭51-144400