光感応性ポリマー並びにそれを用いたレジスト材料及びパターン形成方法

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：石田敬 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-013819
公開番号（公開出願番号）：特開平10-204178
出願日： 1997年01月28日
公開日（公表日）： 1998年08月04日
要約：

【要約】【課題】波長200nm以下の光を光源とする場合の二層レジストの上層レジスト材料として好適な、高解像性且つ高耐エッチング性の光感応性シロキサンポリマーを提供する。【解決手段】本発明の光感応性シロキサンポリマーは下記一般式で表される。【化1】(上式中、Rはシロキサン骨格単位を表し、R<SP>1 </SP>、R<SP>2 </SP>はそれぞれ独立にアルキル基又はアルケニル基を表し、R<SP>3 </SP>、R<SP>4 </SP>はそれぞれ独立に-H、アルキル基又はアルケニル基を表し、m=1又は2であり、a及びbは正の整数であり、そして0<b/(a+b)≦0.1である)

請求項（抜粋）：

下記一般式で表される光感応性シロキサンポリマー。【化1】(上式中、Rはシロキサン骨格単位を表し、R<SP>1 </SP>、R<SP>2 </SP>はそれぞれ独立にアルキル基又はアルケニル基を表し、R<SP>3 </SP>、R<SP>4 </SP>はそれぞれ独立に-H、アルキル基又はアルケニル基を表し、m=1又は2であり、a及びbは正の整数であり、そして0<b/(a+b)≦0.1である)

IPC (3件)：

C08G 77/24 , G03F 7/075 511 , H01L 21/027

FI (3件)：

C08G 77/24 , G03F 7/075 511 , H01L 21/30 502 R

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