特許
J-GLOBAL ID:200903040730551255

遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 萩野 平 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-185283
公開番号(公開出願番号):特開平11-030864
出願日: 1997年07月10日
公開日(公表日): 1999年02月02日
要約:
【要約】【課題】 基板密着性とパタ-ンプロファイルに優れ、その結果として高い解像力が得られるとともに、ArFエキシマレーザー光源に対して吸光度が低く、高感度を有する遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物の提供。【解決手段】 活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物と、特定の多環部分構造が重合可能な炭素-炭素二重結合に直接あるいは2価の有機連結基を介して連結されたモノマーを繰り返し単位として含有する酸の作用により分解しアルカリに対する溶解性が増加する樹脂を含有する遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物。
請求項(抜粋):
酸の作用により分解しアルカリに対する溶解性が増加する樹脂及び活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物を含有する遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物において、酸の作用により分解しアルカリに対する溶解性が増加する樹脂が、下記一般式〔I〕で表される部分構造が重合可能な炭素-炭素二重結合に直接あるいは2価の有機連結基を介して連結されたモノマーを繰り返し単位として含有することを特徴とする遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物。【化1】式〔I〕中、R1 ;酸の作用により分解する基を表す。R2 ;水素原子、アルキル基、環状アルキル基、置換環状アルキル基、-A-R11、又は酸の作用により分解する基を表す。R3 〜R6 ;同じでも異なっていてもよく、水素原子、アルキル基、置換アルキル基を表す。R7 〜R10;同じでも異なっていてもよく、水素原子、アルキル基、置換アルキル基、環状アルキル基、置換環状アルキル基を表し、但しR7 〜R10のうち少なくとも一つは、重合可能な炭素-炭素二重結合と直接もしくは2価の有機連結基を介して結合する。Ra 、Rb 、Rc 、Rd ;同じでも異なっていてもよく、水素原子、アルキル基、環状アルキル基を表す。R3 〜R10及びRa 、Rb 、Rc 、Rd のうち少なくとも2つが結合して多環構造を形成してもよい。R7 〜R10がそれら環を形成した場合は、その環から直接もしくは有機連結基を介して重合可能な炭素-炭素二重結合と結合してもよい。X;酸素原子、硫黄原子、-NH-、-NHSO2-又は-NHSO2NH-を表す。l;0〜6の整数を表す。m、n;同じでも異なっていてもよく、0〜8の整数を表す。A;単結合、アルキレン基、置換アルキレン基、エーテル基、チオエーテル基、カルボニル基、エステル基、アミド基、スルフォンアミド基、ウレタン基、ウレア基よりなる群から選択される2価の基、あるいはそれら2つ以上を組み合わせた2価の基を表す。R11;-COOH、-COOR12、-CN、水酸基、-OR12、-CO-NH-SO2R12、又は【化2】を表す。R12;アルキル基、置換アルキル基、環状アルキル基、又は置換環状アルキル基を表す。R13〜R16;同じでも異なっていてもよく水素原子又はアルキル基を表す。p;1又は2を表す。
IPC (3件):
G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027 ,  C09D 4/00
FI (3件):
G03F 7/039 601 ,  C09D 4/00 ,  H01L 21/30 502 R

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