特許
J-GLOBAL ID：200903040738737900
炭酸ガスレーザー加工用スチレン系樹脂組成物およびその加工方法
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
久保山 隆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-199446
公開番号（公開出願番号）：特開平8-059931
出願日： 1994年08月24日
公開日（公表日）： 1996年03月05日
要約：
【要約】【目的】 スチレン系樹脂本来の物性を損なうことなく、炭酸ガスレーザーでの加工性の優れたスチレン系樹脂組成物を提供する。【構成】 スチレン系重合体100重量部当たりアルキレンオキサイド単位を0.5〜5重量部含んでなる炭酸ガスレーザー加工用樹脂組成物。
請求項（抜粋）：
スチレン系重合体100重量部当たりアルキレンオキサイド単位を0.5〜5重量部含んでなる炭酸ガスレーザー加工用スチレン系樹脂組成物。
IPC (3件)：
C08L 25/04 LED
, C08L 25/04
, C08L 71:02
