特許

J-GLOBAL ID：200903040753819093

マスク検査装置およびマスク検査方法

発明者： 石川 喜一
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 佐藤 隆久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-275430
公開番号（公開出願番号）：特開2003-084426
出願日： 2001年09月11日
公開日（公表日）： 2003年03月19日
要約：

【要約】【課題】光透過性の透明欠陥を精度良く検出することができるマスク検査装置およびマスク検査方法を提供する。【解決手段】マスク2に異なる波長をもつ少なくとも2つの検査光L1,L2,L3を照射し、マスク2上で各検査光L1,L2,L3を走査可能な光照射手段4-1,4-2,4-3と、走査された各検査光のマスクからの各透過光ごとの光強度分布と、設計データに基づき算出された光強度分布とを比較して欠陥を検出する検出手段とを有する。

請求項（抜粋）：

マスクに異なる波長をもつ少なくとも2つの検査光を照射し、前記マスク上で各検査光を走査可能な光照射手段と、走査された前記各検査光の前記マスクからの各透過光ごとの光強度分布と、設計データに基づき算出された光強度分布とを比較して欠陥を検出する検出手段とを有するマスク検査装置。

IPC (2件)：

G03F 1/08 ,  G01N 21/956

FI (2件)：

G03F 1/08 S ,  G01N 21/956 A

Fターム (13件)：

2G051AA56 ,  2G051AB02 ,  2G051BA04 ,  2G051BA06 ,  2G051BA08 ,  2G051BA10 ,  2G051BC05 ,  2G051CA03 ,  2G051CA12 ,  2G051EA11 ,  2H095BD04 ,  2H095BD20 ,  2H095BD27