特許
J-GLOBAL ID：200903040774088633
洗浄方法及び洗浄装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
澁谷 孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-151637
公開番号（公開出願番号）：特開平7-328573
出願日： 1994年06月09日
公開日（公表日）： 1995年12月19日
要約：
【要約】【目的】 片面を特に再汚染することなく水平移動により両面洗浄可能なメガソニック洗浄装置を提供する。【構成】 洗浄槽11には洗浄液17が満杯にされており、リザーブタンク18には回収した洗浄液24が所定液面に入っている。パイプ19、20、ポンプ21で洗浄液17を循環させると、洗浄液17はオーバーフロー層17cを形成してオーバーフロー槽15、16へ溢れ出る。この状態で、搬送ローラ14でガラス板等の被洗浄物12をオーバーフロー層17c内を貫くように水平移動させる。被洗浄物12がメガソニック振動子13の上を通過すると、メガソニックは被浄物12を透過してオーバーフロー面17dに達する。被洗浄物12の両面がメガソニック洗浄され、特に搬送ローラ14に接しない被洗浄物12の上面は、搬送ローラ14で再汚染されることなく洗浄される。
請求項（抜粋）：
液面下の被洗浄物に0.2MHz以上5MHz以下の高周波超音波を透過させて洗浄することを特徴とする洗浄方法。
IPC (2件)：
B08B 3/12
, H01L 21/304 341
