特許

J-GLOBAL ID：200903040775364120

遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物

発明者： 佐藤 健一郎 ,  阿出川 豊 ,  青合 利明
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 萩野 平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-297144
公開番号（公開出願番号）：特開2001-117231
出願日： 1999年10月19日
公開日（公表日）： 2001年04月27日
要約：

【要約】【課題】遠紫外光、特に波長193nmのArFエキシマレーザー光に好適で、コンタクトホールパターンの感度、解像力、デフォーカスラチチュードが良好な遠紫外線露光用ポジ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】 活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、特定の構造の繰り返し単位と主鎖に脂環式環を有する特定の構造の繰り返し単位とを有し、かつ酸の作用により分解する基を有する樹脂であり、更に、その分子鎖の少なくとも一方の末端に特定の構造で表される基を有する樹脂、を含有することを特徴とする遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物。

請求項（抜粋）：

(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、(B)下記一般式(Ib)で表される繰り返し単位と下記一般式(II)で表される繰り返し単位とを有し、かつ酸の作用により分解する基を有する樹脂であり、更に、その分子鎖の少なくとも一方の末端に下記構造式(1)で表される基を有する樹脂、を含有することを特徴とする遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物。【化1】式(Ib)中:Z2は、-O-又は-N(R3)-を表す。ここでR3は、水素原子、水酸基又は-OSO2-R4を表す。R4は、アルキル基、ハロアルキル基、シクロアルキル基又は樟脳残基を表す。式(II)中:R11,R12は、各々独立に、水素原子、シアノ基、ハロゲン原子、又は置換基を有していてもよいアルキル基を表す。Zは、結合した2つの炭素原子(C-C)を含み、置換基を有していてもよい脂環式構造を形成するための原子団を表す。-X1-A1 (1)式(1)中:X1は-A2 -、-S-A2 -、-O-A2 -、-NH-A2 -、-NA3 -A2 -、A1はアルコキシ基、水酸基、カルボキシル基、-COO-A3 、-CONH-A3 、-CONHSO2 -A3 、-CONH2 、A2 は炭素数1〜20の2価の炭化水素基、A3 はアルキル基を示す。

IPC (2件)：

G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027

FI (2件)：

G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R

Fターム (12件)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB10 ,  2H025CB41 ,  2H025CB42