特許
J-GLOBAL ID：200903040778096061
液晶電気光学素子の製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小鍜治 明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-247904
公開番号（公開出願番号）：特開平7-104252
出願日： 1993年10月04日
公開日（公表日）： 1995年04月21日
要約：
【要約】【目的】 表示性能、信頼性の共に高い高分子分散型液晶を用いた液晶電気光学素子の製造方法を提供する。【構成】 少なくとも2つ以上の開口部を有し、温度コントロールされた電極付きセル内にアイソトロピック状態となった調光層形成材料を、少なくとも1つの開口部より減圧排気し、他の少なくとも1つの開口部より注入し、注入後、光硬化工程と熱硬化工程を併用して高分子分散型の液晶光学素子を製造する。【効果】 低い真空度で調光層形成材料を注入できるために、比較的揮発生成分の蒸発を防ぐことができる。また、温度コントロールされたセルを使用することにより、調光層形成材料の粘度の低下及び相分離の防止が可能となり、上記材料を均一かつ短時間でセル内に注入することができる。その後、光硬化工程と熱硬化工程を併用し充分硬化させることにより表示性能、信頼性の共に高い液晶光学素子を得ることができる。
請求項（抜粋）：
液晶が高分子樹脂マトリクス中に分散保持された高分子分散型液晶を、電極層を有する少なくとも一方が透明な2枚の基板間に挟持して成る液晶光学素子の製造法において、(1)少なくとも2つ以上の開口部を有し、加熱手段により一定温度にコントロールされたセル内に、加熱、撹拌によりアイソトロピック状態となった液晶材料、光重合性組成物及び光重合開始剤からなる調光層形成材料を、少なくとも1つの開口部より減圧排気し、他の少なくとも1つの開口部より注入する第1工程と、(2)注入完了後、アイソトロピック状態の調光層形成材料に紫外線を照射し、前記光重合性組成物を重合させることによって液晶を高分子樹脂マトリクス中に分散保持させた調光層を形成する第2工程を有することを特徴とする液晶電気光学素子の製造方法。
IPC (2件)：
G02F 1/1333
, G02F 1/13 101
