特許
J-GLOBAL ID:200903040780474430

投射型表示装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 藤村 元彦
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-266008
公開番号(公開出願番号):特開平6-118437
出願日: 1992年10月05日
公開日(公表日): 1994年04月28日
要約:
【要約】【目的】 収差による解像力の低下を防止した光学系を有する投射型表示装置を提供する。【構成】 光源から出射された光線束を透過する偏光ビームスプリッタ、及び該光線束に投影画像を付与しつつこれを反射する光導電型液晶ライトバルブを含む投射型表示装置であって、偏光ビームスプリッタと光導電型液晶ライトバルブとの間において光線束の中心光軸を法線とする平面に対して面対称に傾斜して配置されかつ該光線束をその波長成分に分割する少なくとも2つのダイクロイックミラーと、偏光ビームスプリッタの入射若しくは出射面上に又は偏光ビームスプリッタと光導電型液晶ライトバルブとの間に配置された非点収差補正手段と、を有する。
請求項(抜粋):
光源から出射された光線束を透過する偏光ビームスプリッタ、及び該光線束に投影画像を付与しつつこれを反射する光導電型液晶ライトバルブを含む投射型表示装置であって、前記偏光ビームスプリッタと前記光導電型液晶ライトバルブとの間において前記光線束の中心光軸を法線とする平面に対して面対称に傾斜して配置されかつ該光線束をその波長成分に分割する少なくとも2つのダイクロイックミラーと、前記偏光ビームスプリッタの入射若しくは出射面上に又は前記偏光ビームスプリッタと前記光導電型液晶ライトバルブとの間に配置された非点収差補正手段と、を有することを特徴とする投射型表示装置。
IPC (3件):
G02F 1/135 ,  G02B 27/18 ,  G02F 1/13 505

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