特許

J-GLOBAL ID：200903040782576655

ステージ装置およびこれを用いた露光装置ならびにデバイス製造方法

発明者： 松井 紳 ,  小山内 英司 ,  大石 伸司 ,  久保 忠之
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 阪本 善朗
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-114208
公開番号（公開出願番号）：特開平11-297795
出願日： 1998年04月09日
公開日（公表日）： 1999年10月29日
要約：

【要約】【課題】 縦型ステージの動特性を改善する。【解決手段】 ウエハ等を保持するXステージ30はXリニアモータ50によってX軸方向に駆動され、Xステージ30を支持するYステージ20はYリニアモータ40によってY軸方向(鉛直方向)に駆動される。Yステージ20は、ベルト62によって自重補償用のカウンターマス61に連結され、Yステージ20とベルト62の間は、空気圧を制御できるベロフラムやエアーシリンダ等のアクチュエータ70を介して結合されている。Xステージ30の位置情報に基づいてアクチュエータ70を制御することで回転モーメントを補正し、Yガイド11にかかる負荷を低減する。

請求項（抜粋）：

基準面に沿って2次元的に移動自在であるワークステージと、該ワークステージを鉛直またはこれに近似する第1の方向に移動させる第1の駆動手段と、前記ワークステージを第2の方向に移動させる第2の駆動手段と、前記ワークステージの重さにバランスするカウンターマスと、該カウンターマスを前記ワークステージに連結する複数の連結部材と、各連結部材の張力または有効長さを調節するためのアクチュエータを有するステージ装置。

IPC (4件)：

H01L 21/68 ,  G03F 7/20 503 ,  G05D 3/00 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

H01L 21/68 K ,  G03F 7/20 503 ,  G05D 3/00 Z ,  H01L 21/30 515 G