特許

J-GLOBAL ID：200903040811284774

光重合性感光材料

発明者： 橋野 正 ,  今橋 ▲聡▼
出願人/特許権者： 東洋紡績株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-158813
公開番号（公開出願番号）：特開平8-029972
出願日： 1994年07月11日
公開日（公表日）： 1996年02月02日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】 光重合性組成物の保存安定性を向上させる。【構成】 支持体上に、少なくともホスホン酸基又は、及びホスフィン酸基を側鎖に有する高分子重合体層を設け、さらに少なくとも(a)一種の常温で非ガス状のエチレン性不飽和化合物(b)一般式化1で示されるフェニルグリシン誘導体(c)光開始剤を含有する光重合性組成物からなる層を設けてなる光重合性感光材料。式中R1はC1〜C12のアルキル基、C2〜C12のアルケニル基、C2〜C12のアルキニル基、C1〜C8のアルコキシ基等、C2〜C6のモノカルボン酸およびエステルおよびアミド、フェニル基、C2〜C5のアルカノイル基等、より選ばれ、ベンゼン環と縮合多環化合物を形成してもよい。nは0または1であり。R2,R3は同じかまたは異なる基であり、水素または、C1〜C12のアルキル基から選ばれるものである。

請求項（抜粋）：

支持体上に、少なくともホスホン酸基又は、及びホスフィン酸基を側鎖に有する高分子重合体層を設け、さらに少なくとも(a)一種の常温で非ガス状のエチレン性不飽和化合物(b)下記一般式化1で示されるフェニルグリシン誘導体(c)光開始剤を含有する光重合性組成物からなる層を設けてなる光重合性感光材料。【化1】式中R1はC1〜C12のアルキル基、C2〜C12のアルケニル基、C2〜C12のアルキニル基、C1〜C8のアルコキシ基、シアノ基、アルキルチオ基、フェノキシ基、 C2〜C6のモノカルボン酸およびエステルおよびアミド、フェニル基、C2〜C5のアルカノイル基、アンモニウム塩、ピリジニウム基、ニトロ基、アルキルスルフィ ニル基、アルキルスルフォニル基、スルファモノル基より選ばれ、ベンゼン環と縮 合多環化合物を形成してもよいnは0または1でありR2,R3は同じかまたは異な る基であり、水素または、C1〜C12のアルキル基から選ばれるものである。

IPC (6件)：

G03F 7/004 502 ,  C08F 2/48 MDH ,  G03F 7/027 502 ,  G03F 7/028 ,  G03F 7/033 ,  H05K 3/00