特許
J-GLOBAL ID：200903040816284713
イオン注入装置のためのロードロックアセンブリ
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
萼 経夫 (外3名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-529560
公開番号（公開出願番号）：特表2001-518226
出願日： 1997年02月14日
公開日（公表日）： 2001年10月09日
要約：
【要約】本発明は、平らなパネルディスプレイ等の大量の加工物を迅速にかつ効率的に処理する、高い処理能力を有するイオン注入装置のためのロードロックアセンブリを提供する。このロードロックアセンブリ(310)は、処理室(318)を通過する加工物を連続的に循環させることにより、イオン注入装置の処理能力を増加し、そして、装置全体の処理能力を高める。ロードロックアセンブリは、複数の積層ロードロック要素(354)を含み、このロードロック要素は、軸方向に相互配置されてロードロックの積層列を形成する。さらに、このロードロックの列は、隣接するロードロックを入れ子にするように形作られ、積層可能でかつ入れ子可能なロードロックアセンブリを形成する。
請求項（抜粋）：
上面と底面を有し、各々が軸方向に相互配置されて積層列を形成する複数の 積層ロードロック要素を備えていることを特徴とするイオン注入装置のための ロードロックアセンブリ。
IPC (5件)：
H01J 37/317
, C23C 14/48
, H01J 37/20
, H01L 21/265 603
, H01L 21/68
H01J 37/317 B
, C23C 14/48 Z
, H01J 37/20 B
, H01L 21/265 603 Z
, H01L 21/68 A
