下水の処理方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：松月美勝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-158632
公開番号（公開出願番号）：特開平11-319492
出願日： 1998年05月21日
公開日（公表日）： 1999年11月24日
要約：

【要約】【課題】下水の最終的な高次処理を二段の逆浸透膜モジュ-ルを使用して行う場合、窒素や燐等の栄養塩類に対する除去率を高く保持しつつ高安定の透過流束のもとで処理できる下水の処理方法を提供する。【解決手段】二段の逆浸透膜モジュ-ル61,62により下水処理における最終的な高次処理を行う方法において、電気的に中性の親水基を有する被覆層、若しくは親水基を有し、かつpH6での表面ζ電位が±10mv以内の被覆層を逆浸透膜の表面に設けた逆浸透膜モジュ-ルを前段逆浸透膜モジュ-ル61として使用する。

請求項（抜粋）：

二段の逆浸透膜モジュ-ルにより下水処理における最終的な高次処理を行う方法において、電気的に中性の親水基を有する被覆層を逆浸透膜の表面に設けた逆浸透膜モジュ-ルを前段逆浸透膜モジュ-ルとして使用することを特徴とする下水の処理方法。

IPC (8件)：

B01D 61/02 , B01D 61/58 , B01D 69/02 , B01D 69/12 , B01D 71/38 , B01D 71/56 , B01D 71/58 , C02F 1/44

FI (8件)：

B01D 61/02 , B01D 61/58 , B01D 69/02 , B01D 69/12 , B01D 71/38 , B01D 71/56 , B01D 71/58 , C02F 1/44 K

引用特許：

審査官引用 (10件)

水処理方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-027191 出願人：株式会社クボタ
下水の処理方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-018306 出願人：日東電工株式会社
特開平3-278823

全件表示

前のページに戻る