特許

J-GLOBAL ID：200903040830442402

液晶表示素子の製造方法

発明者： 岡本 ますみ ,  山本 恭弘 ,  山本 武志 ,  久武 雄三 ,  羽藤 仁
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 大胡 典夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-154036
公開番号（公開出願番号）：特開平7-013165
出願日： 1993年06月25日
公開日（公表日）： 1995年01月17日
要約：

【要約】【目的】 マスクを用いてラビングにより基板上の配向層に部分的に異なる配向状態の領域を形成する場合に、配向膜にラビングすじやマスクの欠けによる不良を生じない製造方法を得ることにある。【構成】 基板11上に配向膜12を設置する工程と、この配向膜12面にマスクを用いて選択的にラビング処理を施す工程とを具備してなる配向膜を有する液晶表示素子の製造方法において、マスクとして可溶性ポリイミド膜13を前記配向膜面に被着する。

請求項（抜粋）：

表面に電極を有した第1、第2の基板上に配向膜を形成する工程と、次に前記配向膜に配向処理を施す工程と、次に前記電極が相対向するように前記2枚の基板を貼り合わせる工程と、次に前記2枚の基板間に液晶組成物を封入する工程とから成る液晶表示素子の製造方法において、前記配向膜を形成する工程において、前記第1、第2の基板表面に少なくともどちらか一方に、配向膜形成後に第1の配向処理を行い、次に液晶配向膜上に可溶性ポリイミドの保護膜を部分的に形成し、次に第2の配向処理を行い、次に前記可溶性ポリイミド膜を除去することを特徴とする液晶表示素子の製造方法。