特許
J-GLOBAL ID：200903040835086167

荷電粒子ビーム出射方法

発明者：
平本 和夫

平本 和夫 について


出願人/特許権者：
株式会社日立製作所

株式会社日立製作所 について


代理人 (1件)： 小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-294900
公開番号（公開出願番号）：特開2000-124000
出願日： 1998年10月16日
公開日（公表日）： 2000年04月28日
要約：
【要約】【課題】簡単な制御で荷電粒子ビームを出射できる荷電粒子ビーム出射方法を提供することにある。【解決手段】シンクロトロン1内を周回する荷電粒子ビームに高周波印加装置11により高周波電磁場を印加することにより、シンクロトロン1から荷電粒子ビームを出射する場合に、シンクロトロン1から出射する荷電粒子ビームのエネルギーに基づいて、高周波印加装置11が発生する高周波電磁場の強度を制御する。
請求項（抜粋）：
加速器内を周回する荷電粒子ビームに高周波電磁場を印加することにより、加速器から荷電粒子ビームを出射する荷電粒子ビーム出射方法において、加速器から出射する荷電粒子ビームのエネルギーに基づいて、前記高周波電磁場の強度を設定することを特徴とする荷電粒子ビーム出射方法。
FI (2件)：
H05H 13/04 G ,  H05H 13/04 Q
Fターム (12件)：
2G085AA13 ,  2G085AA16 ,  2G085BA06 ,  2G085BA09 ,  2G085BA14 ,  2G085BC01 ,  2G085BC08 ,  2G085BC11 ,  2G085BC20 ,  2G085CA21 ,  2G085CA22 ,  2G085DA08
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (2件)

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