高次固有成分を用いる顔の記述および認識のための方法および装置

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：河宮治 , 石野正弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-101768
公開番号（公開出願番号）：特開2004-038937
出願日： 2003年04月04日
公開日（公表日）： 2004年02月05日
要約：

【課題】高次固有成分を用いる顔の記述および認識のための方法および装置を提供する。【解決手段】高次固有成分がその特定の顔成分の詳細な局所的情報を記述するために提案される。数式が与えられて、射影用の高次変換行列を計算する。高次成分特徴が、顔成分を記述するために個々に使用され得るか、または一次成分特徴と組み合わされ得る。目、眉、鼻、口および輪郭の一次成分特徴と高次成分特徴との組合わせが、対応する領域の識別情報の重要度に基づいて定められるので、一次固有顔特徴、または一次固有顔特徴と高次固有顔特徴との組合わせだけの場合よりも高い性能の顔記述を得ることが出来る。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

顔を記述するために顔の各成分の特徴を抽出する方法であって、学習モード演算を処理する工程であって、複数の学習用顔画像を解析する工程と、解析された学習用顔画像を用いて、一次固有成分U(1)を計算する工程と、解析された学習用顔画像を用いて、二次固有成分U(2)を計算する工程と、を含む工程と、試験モード演算を処理する工程であって、試験用顔画像を解析する工程と、二次固有成分U(2)を用いて、試験用顔画像の二次成分特徴W(2)を得る工程とを含む工程と、を含む方法。

IPC (3件)：

G06T7/00 , A61B5/117 , G06T1/00

FI (4件)：

G06T7/00 300F , G06T7/00 350B , G06T1/00 340A , A61B5/10 320B

Fターム (19件)：

4C038VA07 , 4C038VB03 , 4C038VC05 , 5B057AA20 , 5B057BA02 , 5B057DA20 , 5B057DB02 , 5B057DB05 , 5B057DB09 , 5B057DC30 , 5B057DC34 , 5B057DC36 , 5L096BA18 , 5L096FA00 , 5L096FA28 , 5L096FA32 , 5L096HA07 , 5L096JA11 , 5L096KA04

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