特許
J-GLOBAL ID：200903040880576280
リソグラフィ用現像液及びリソグラフィ工程
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
福森 久夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-233082
公開番号（公開出願番号）：特開平5-303208
出願日： 1992年08月07日
公開日（公表日）： 1993年11月16日
要約：
【要約】【目的】 全ての異なった寸法、形状を持った微細レジストパターンを設計通りに形成することが可能なリソグラフィ用現像液及びリソグラフィ工程を提供することを目的とする。【構成】 異なる寸法または異なる形状を有するレジストパターンを形成するに際し、形成されたレジスト層の溶解除去すべきレジスト領域に関して、前記レジスト層表面における溶解除去面積の小さい溶解除去すべきレジスト領域のレジストの溶解を増大させる能力を有する界面活性剤を含むことを特徴とする。
請求項（抜粋）：
異なる寸法または異なる形状を有するレジストパターンを形成するに際し、形成されたレジスト層の溶解除去すべきレジスト領域に関して、前記レジスト層表面における溶解除去面積の小さい溶解除去すべきレジスト領域のレジストの溶解を増大させる能力を有する界面活性剤を含むことを特徴とするリソグラフィ用現像液。
IPC (2件)：
引用特許：
前のページに戻る
