特許
J-GLOBAL ID:200903040900426590

沈降シリカの新規な調製方法、新規な沈降シリカ及びエラストマー強化におけるその使用

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 倉内 基弘 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-146250
公開番号(公開出願番号):特開平11-130420
出願日: 1992年06月26日
公開日(公表日): 1999年05月18日
要約:
【要約】【課題】 改良された分散容量及び強化特性を有する新規な沈降シリカ、その調製方法、及びエラストマー強化におけるその用途を提供する。【解決手段】 BET比表面積140〜200<U>m<SP>2</U></SP>/g、CTAB比表面積140〜200<U>m<SP>2</U></SP>/g並びに、直径175〜275Åの気孔を含む気孔容量が直径400Å以下の気孔を含む気孔容量の少なくとも60%である如き気孔分布を有する顆粒形状であることを特徴とする沈降シリカ。(i)反応に参与する全珪酸塩量の少なくとも一部分及び電解質を含む初期沈降物にして、該初期沈降物中のシリカ濃度が100g/l未満及び初期沈降物中の電解質濃度が17g/l未満である沈降物を形成し、(ii)反応媒体に関し少なくとも7のpH値が得られるまで沈降物に酸性化剤を加え、そして(iii)反応媒体に酸性化剤と、もし適当なら珪酸塩残部を同時添加することにより沈降を実施し、且つ乾燥物質の最大割合が24重量%である懸濁物を乾燥することを特徴とする沈降シリカの調製方法。
請求項(抜粋):
珪酸塩と酸性化剤とを反応させ、それにより沈降シリカの懸濁物を得、次いで該懸濁物を分離乾燥することを含むタイプの、改良された分散能力及び強化特性を有する沈降シリカの調製に際し、(i) 反応に参与する全珪酸塩量の一部分及び電解質を含む初期沈降物にして、該初期沈降物中のシリカ濃度が100g/l未満及び初期沈降物中の電解質濃度が17g/l未満である沈降物を形成し、(ii) 反応媒体に関し7〜8のpH値が得られるまで沈降物に酸性化剤を加え、そして(iii) 反応媒体に酸性化剤と珪酸塩残部を同時添加することにより沈降を実施し、且つ乾燥物質の最大割合が24重量%である懸濁物を乾燥することを特徴とする方法。
IPC (3件):
C01B 33/193 ,  C08K 3/36 ,  C08L 21/00
FI (3件):
C01B 33/193 ,  C08K 3/36 ,  C08L 21/00
引用特許:
出願人引用 (1件)
  • 特公昭61-008802
審査官引用 (2件)
  • 特公昭61-008802
  • 特公昭61-008802

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