特許
J-GLOBAL ID:200903040921153268

電気光学表示セルのスペーサ形成方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 山口 邦夫 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-115553
公開番号(公開出願番号):特開平7-318950
出願日: 1994年05月27日
公開日(公表日): 1995年12月08日
要約:
【要約】【目的】スペーサ粒子を散布する場合のような画質劣化を招くことがなく、またスペーサを形成するための専用工程を不要とし得る電気光学表示セルのスペーサ形成方法を提供する。【構成】内側主面にデータ電極5が形成された基板4の各データ電極5の間にブラックの顔料が分散されたフォトレジストを使用してフォトリソグラフィ法でもってブラックマスク17BLを形成する。また、データ電極5に対応する部分に赤、緑、青の顔料が分散されたフォトレジストを使用してフォトリソグラフィ法でもって色フィルタ17R,17G,17Bを順次形成する。スペーサ16は、ブラックマスク17BL上に赤、緑、青の色フィルタ17R,17G,17Bの形成時に顔料分散フォトレジストが順次積層されて形成される。スペーサ粒子を散布する場合のような画質劣化を招くことがなく、またスペーサを形成するための専用工程も不要となる。
請求項(抜粋):
第1および第2の基板間に電気光学材料が充填されると共に、上記第1および第2の基板のいずれかの基板上に顔料分散樹脂を使用してフォトリソグラフィ法によってブラックマスクおよび赤、緑、青の色フィルタが順次形成される電気光学表示セルにおいて、上記ブラックマスクおよび赤、緑、青の色フィルタの形成時に上記顔料分散樹脂を順次積層することで上記第1および第2の基板の間隔を規制するスペーサを形成することを特徴とする電気光学表示セルのスペーサ形成方法。
IPC (3件):
G02F 1/1339 500 ,  G02B 5/20 101 ,  G02F 1/1335 505
引用特許:
審査官引用 (3件)

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