特許
J-GLOBAL ID:200903040945251198
処理装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
松隈 秀盛
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-257178
公開番号(公開出願番号):特開平7-115081
出願日: 1993年10月14日
公開日(公表日): 1995年05月02日
要約:
【要約】【目的】 自動洗浄装置のスピン乾燥においてウェーハを固定して回転させるチャックピンの部分での水滴残りを無くす。【構成】 自動洗浄装置において、スピン乾燥でウェーハエッジ部を固定するチャックピン45〔45A,45B〕の中央部に水滴残りを逃すための透孔57を設けて構成する。
請求項(抜粋):
回転によりウェーハ表面の処理液を除去する処理装置において、上記ウェーハの周辺端部に接するウェーハ保持部に上記処理液を逃すための除液部が設けられて成ることを特徴とする処理装置。
IPC (3件):
H01L 21/304 351
, H01L 21/304 341
, H01L 21/68
引用特許:
審査官引用 (2件)
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特開昭62-128142
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特開昭60-030140
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