特許

J-GLOBAL ID：200903040957876150

研磨用組成物

発明者： 三 浦 司 朗 ,  河 村 篤 紀 ,  玉 井 一 誠
出願人/特許権者： 株式会社フジミインコーポレーテッド
代理人 (1件)： 佐藤 一雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-325614
公開番号（公開出願番号）：特開平10-172934
出願日： 1996年12月05日
公開日（公表日）： 1998年06月26日
要約：

【要約】【課題】 被研磨面を研磨する速度が大きく、リサイクル使用した場合、使用回数を重ねても被研磨面を研磨する速度の低下が小さく、加工プロセスを安定化することができる研磨用組成物の提供。【解決手段】 フュームドシリカ、塩基性カリウム化合物および水を含んでなる研磨用組成物であって、その電気伝導率が100〜5500μS/cmであることを特徴とする研磨用組成物。

請求項（抜粋）：

フュームドシリカ、塩基性カリウム化合物および水を含んでなる研磨用組成物であって、その電気伝導率が100〜5500μS/cmであることを特徴とする研磨用組成物。

IPC (5件)：

H01L 21/304 321 ,  B24B 37/00 ,  C01B 33/18 ,  C09K 3/14 550 ,  C09K 3/14

FI (5件)：

H01L 21/304 321 P ,  B24B 37/00 H ,  C01B 33/18 Z ,  C09K 3/14 550 D ,  C09K 3/14 550 Z

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 特開平4-120719