特許
J-GLOBAL ID：200903040969332407
コリメーション装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
長谷川 芳樹 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-267396
公開番号（公開出願番号）：特開平7-188917
出願日： 1994年10月31日
公開日（公表日）： 1995年07月25日
要約：
【要約】【目的】 本発明は、出力を上げることなく製造の目的にかなった高いスループットが実現可能な、コリメーションフィルタを備えたプラズマ堆積システムを提供することを目的とする。【構成】 本発明による、堆積材料をターゲットからウエハ上へスパッタするプラズマ堆積システムは、チャンバと、プラズマ処理中にウエハを保持するプラットフォームと、ターゲットがその上に配置され操作中に前記チャンバ内にプラズマを発生させるソースと、チャンバをターゲットが配置される上キャビティとウエハが配置される下キャビティとに分割しターゲットからスパッタされた材料を通過させる等電位導電面と、上キャビティの内部に配置されプラズマを包囲しRF出力をソース生成プラズマ内に結合させる上アンテナとを備える。
請求項（抜粋）：
ターゲットから材料をウエハ上へスパッタ堆積するプラズマ堆積システムであって、チャンバと、プラズマ処理中にウエハを保持するプラットフォームと、ターゲットが上に配置される、操作中に前記チャンバ内にプラズマを発生させるソースと、前記チャンバをターゲットが配置される上キャビティとウエハが配置される下キャビティとに分割する、前記ターゲットからスパッタされた材料を通過させる等電位導電面と、上キャビティの内部に配置されプラズマを包囲する、RF出力をソース生成プラズマ内に結合させる上アンテナとを備えるプラズマ堆積システム。
IPC (2件)：
引用特許：
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