特許

J-GLOBAL ID：200903040980859794

ラビング処理装置、ラビング処理方法および液晶表示装置

発明者： 村山 真一 ,  藤井 敬三
出願人/特許権者： シャープ株式会社
代理人 (1件)： 西教 圭一郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-351375
公開番号（公開出願番号）：特開平10-186364
出願日： 1996年12月27日
公開日（公表日）： 1998年07月14日
要約：

【要約】【課題】 被処理基板の段差を有する表面を均一にラビング処理し、液晶表示装置の表示品位を向上する。【解決手段】 被処理基板51a,51bの矩形の基板53a,53bの一方表面上には、帯状の表示用電極54a,54bと該電極を覆う被処理膜55a,55bとが形成される。該被処理膜表面にラビングローラ52を接触させ、回転軸58を中心として回転させながら、被処理基板およびラビングローラを相対的に移動させてラビング処理される。電極の長手方向62a,62bと基板の一辺53cとが平行に、ラビングローラ52のラビング布57のパイルの1並設方向63と回転軸58とが平行に、該1並設方向63と電極の長手方向62a,62bとのなす角度θ1が±5°以内の範囲にそれぞれ選ばれる。

請求項（抜粋）：

基板上に複数の帯状電極が互いに平行に形成され、該帯状電極を覆って前記基板上にラビング処理すべき被処理膜が形成された被処理基板の前記被処理膜表面に、互いに直交する2方向に周期性を有する間隔をあけてそれぞれ植設されたパイルを有するラビング布がローラ表面に巻着されたラビングローラを接触させ、被処理基板およびラビングローラを相対的に移動させて、被処理膜表面をラビング処理するラビング処理装置において、ラビングローラのパイルの1並設方向と、被処理基板の帯状電極の長手方向とのなす角度θ1が、±5°以内の範囲に選ばれることを特徴とするラビング処理装置。