特許

J-GLOBAL ID：200903040987585207

処理装置

発明者： 桐生 秀樹 ,  神力 博 ,  杉浦 正仁
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 亀谷 美明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-134753
公開番号（公開出願番号）：特開2000-323554
出願日： 1999年05月14日
公開日（公表日）： 2000年11月24日
要約：

【要約】【課題】 スループットを向上させることが可能な処理装置を提供する。【解決手段】 処理装置100の真空搬送室102の上部には,予備処理室120が配置される。予備処理室120内に配置される載置台124は,昇降軸128の上下動により昇降プレート126とともに昇降する。載置台124等は,降下時に,搬送アーム106の収縮時の回転動作を妨げない領域に配置され,これに対応して真空搬送室102が配置されている。降下時の載置台124は,第1真空処理室108にウェハWを搬送する搬送経路中に配置され,搬送アーム106との間でウェハWの受け渡しが行われる。載置台124の上昇時には,載置台124上のウェハWに予備処理が行われる。真空搬送室102の周囲に予備処理室に代えて第2真空処理室110を設けられるので,処理装置100での処理工程数が増え,生産効率を高めることができる。

請求項（抜粋）：

被処理体を搬送する搬送手段を備えた搬送室と,前記搬送室の周囲に配置され被処理体に処理を施す1または2以上の真空処理室とを備えた処理装置において,前記搬送室の上部および/または下部に設けられ,前記被処理体に予備処理を施す予備処理室と,前記予備処理室と前記搬送室との間を移動可能であり,前記搬送室内にある第一位置おいて前記搬送手段との間において前記被処理体の受け渡しを行い,前記予備処理室内にある第二位置において前記被処理体を載置する昇降手段と,を備えることを特徴とする,処理装置。

IPC (3件)：

H01L 21/68 ,  C23C 14/56 ,  C23C 16/54

FI (3件)：

H01L 21/68 A ,  C23C 14/56 G ,  C23C 16/54

Fターム (15件)：

4K029BD01 ,  4K029KA01 ,  4K029KA09 ,  4K030GA12 ,  4K030KA28 ,  5F031FA11 ,  5F031FA12 ,  5F031GA43 ,  5F031GA49 ,  5F031MA04 ,  5F031MA28 ,  5F031MA29 ,  5F031MA30 ,  5F031NA02 ,  5F031NA05